反渗透设备,离子交换器,高纯水设备,处理设备,edi设备,反渗透设备

随着电子工业的发展对纯水提出了越来越高的要求。例如，制作16K位DRAM允许水中TOC(总有机碳)为500ppb、金属离子为1ppb、≥0.2μm的颗粒为100个/毫升;而制作16M位DRAM时，则要求TOC<5ppb、金属离子<0.2ppb、水中≥0.1μm颗粒数为0.6个/升。

　　可以说在电子级超纯水制备系统中汇集了当前水处理技术**先进的工艺和设备,如超滤、微滤、反渗透、膜脱气、电去离子(EDI)等,其中反渗透装置是整个纯水、反渗透纯净水设备系统工程中一关键的设备.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性无机物质、99%以上的相对分子质量大于300的有机物、99%以上的包括细菌在内的各种微粒和95%以上的二氯化硅.

　　反渗透纯净水设备工艺在纯水、纯净水净化设备工程中的应用,不但能提高了产水品质,降低生产成本,而且防止环境污染,有力地推进了电子工业的进步,同时也促进了纯水、超纯水制造技术的发展.

　　在我国RO应用于电子工业水处理的报道**可追溯到1981年，纯净水净化设备技术**己成功应用于大规模集成电路超纯水制备。此后，不断出现RO制取超纯水工艺流程研究和更大规模超纯水制备的报道。

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