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琢锐匠仪科学仪器(上海)有限公司

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1400℃真空气氛管式炉CVD系统(CVD-TF)

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更新日期2022-06-23 22:31

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详细说明
1400℃真空气氛管式炉CVD系统(CVD-TF)

产品特点
 提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境 此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。 产品性能 1、炉膛采用多晶莫来纤维真空吸附制成,温场均匀节能50%以上 2、空气导流隔热技术保证箱内各部件的使用寿命及恒温效果 3、启动电炉,排温风机同时自动运行,试验结束后,排温风机将继续运行,直至炉体温度低于60℃,排温风机自行停止,有效保护了炉体表面 4、自动断电、超温保护功能、漏电保护功能,以确保使用的安全性 5、电路采用连续加热输出方式,双回路供电,强弱电单独走线提高了系统的稳定性 6、加热模块采用直流信号调节输出功率,避免了感应电对控制信号的干扰 7、自动补偿由于温度或老化对硅碳棒阻值变化带来的控温影响,避免人为调节的不准确性和危险性 8、采用数显流量显示仪,配合质量流量控制器,采集数据并控制流量。具有控制精度高,重复性好,相应速度快,稳定可靠等特点。(气体质量流量控制系统) 9、自动控制与手动控制切换功能,自动控制模式能通过设定值自动开启关闭真空泵,使容器内保持在一定的真空压力范围内。手动控制模式使用用户通过真空泵开启关闭按钮直接操作真空泵。以满足不同实验的需要。(中真空控制系统) 10电磁阀缓启动技术,使电磁阀在真空泵开启10秒钟后打开,使炉管内系统压力保持准确,也保证了废气不会返回到炉管系统影响实验效果(中真空控制系统) 安全性 1、过升报警、菜单锁定、过升防止、复电延时。 2、采用单向阀技术,使气体流量在可控压力范围内控制,保证安全。 3、采用混气罐装置,使气体可以在充分混合后导入工作室内,确保不会泄露。

产品参数 
型号单温区CVD-TF14P40CVD-TF14P50CVD-TF14P60CVD-TF14P80
 单温区CVD-TF14T40CVD-TF14T50CVD-TF14T60CVD-TF14T80
性能使用温度范围300~1400℃
温度分辨率1℃
控温精度± 1℃
升温速率0~20℃/min
加热区长度200mm400mm
恒温区长度70mm140mm
真空度-0.1MPa
空炉升温时间≤15min
 配置炉管时升温速度500℃以下≤5℃/min;500-1000≤10℃/min;1000-1200≤5℃/min;1000-1400≤2℃/min
构成外装冷轧钢板,表面耐药品性涂装
炉膛体多晶莫来石纤维
炉膛尺寸360*350*350mm560*350*350mm
炉管刚玉管
炉管尺寸Φ40/34*1000Φ50/44*1000Φ60/50*1000Φ80/70*1000
加热器硅碳棒
加热功率3KW5KW
断热层双层强制风导流
打开方式
控制 器控制器P:进口程序控温数码显示; T:7寸彩色触摸屏程序控温
控制方式使用微型电脑PID控制
设定方式P:轻触五按键动作、数显设定; T:手指触摸轻点设定
显示方式P:双行LED数字显示; T:彩色液晶屏显示
定时0~999.9小时
运行功能定值运行、程序运行
程序模式P:程序运行、4条曲线、共40步; T:50步 可调用储存程序
传感器S型热电偶
附属功能P:校正功能; T:校正功能、实时曲线记录、U盘数据导出
安全装置过流漏电保护开关
质量流量控制系统气路数量3路(可根据具体需要选配气路数量)
流量范围0-0500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标准
精度±1%F.S
响应时间≤4s
工作温度(流量计)5-45℃
工作压力进气压力0.05-0.3MPa(表压力)
系统连接方式采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪
中真空控制系统系统真空范围10-100Pa
真空泵双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa,抽气速率4L/s,出气口配有油污过滤器,额定电压200V,功率0.55Kw
CVD系统配置1400度真空管式炉多路质量流量控制系统真空系统

 
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