哈尔滨 半导体行业超纯水设备 高纯水反渗透设备 EDI设备

      1、 连续产出超纯水，出水水质具有**的稳定度，以高产率产生超纯水(产率可以高达95%);

      2、 模块化生产，实现设备的全自动控制;

      3、 不需要酸碱再生，不会因为再生而停机;

      4、 不需要酸碱稀释运输设施和酸碱储备;

      5、 设备结构紧凑，体积小，占地面积少;

      6、 使用安全可靠，避免人工接触酸碱;

      7、 节省了反冲和清洗用水，无再生污水，不须污水处理设备;

      8、 安装简单方便，安装费用低廉;减低设备的运行成本及维修成本;

      9、 设备运行操作简单，劳动强度较低;

      EDI电去离子设备一般以反渗透（RO）纯水 作为EDI给水。RO纯水电 导率一般是40-2μS/cm（25℃)。

EDI纯水电阻率可以高达17MΩ.cm(25℃ )，但是根据去离子水用途和系统工艺、配置不同，EDI纯水适 用

于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的超纯水。
      EDI电去离子装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。 EDI组件中将一定数量的

EDI单元间 用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极 。在直流电的推动下，通过淡水室

水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到 浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带

出系统，成为浓水。

      EDI电去离子设备一般以反渗透（RO）纯水 作为EDI给水。RO纯水电 导率一般是40-2μS/cm（25℃)。

EDI纯水电阻率可以高达17MΩ.cm(25℃ )，但是根据去离子水用途和系统工艺、配置不同，EDI纯水适 用

于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的超纯水。

       EDI模块将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI模块中将一定数量的EDI单元间

用格板隔开，形成浓水室和淡水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中

的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，

成为浓水. EDI设备一般以二级反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI

纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI超纯水适用于制备电阻

率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。
     EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和

化工工业高纯水设备的应用中也日趋广泛。