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半导体芯片晶圆清洗设备、酸碱洗槽清洗机

 
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超声波清洗机
超声波清洗机一、设备外型结构及主要参数1、控制模式: 手动控制模式 自动控制模式,配置振板式超声槽;2、清洗能力:2-8英寸 1-2篮/批;3、设备形式: 室内放置型。4、尺寸(参考,详见图纸,含地脚):2500 mm(L)× 15
2022-04-23
LED芯片清洗机
LED芯片清洗机1.清洗对象:LED芯片,LED晶片2.清洗规格:2-4英寸 4-2篮/批; 6-8英寸 2-1篮/批3.工艺说明:手动方式实现放件取件,槽体间传送件。4.设备形式: 室内放置型。5.腐蚀工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过
2022-04-23
显影清洗机
显影清洗机适用对象:硅片 、蓝宝石基片,2-4英寸 4-2篮/批; 6-8英寸 2-1篮/批; 适用产业:半导体照明(LED)、半导体材料、半导体分立器件、集成电路、MEMS、有机发光二级管(OLED)等;控制模式:手动控制模式、
2022-04-23
酸碱洗槽清洗机
酸碱洗槽清洗机用于晶片或其他被洗工件的酸碱洗腐蚀,控制模式: 手动控制模式 自动控制模式,清洗能力:2-8英寸晶片或其他被洗工件。需甲方提供花篮或我司设计篮具。设备形式: 室内放置型。洁净度:千级洁净室 。工
2022-04-23
显影清洗机,苏州晶淼
显影清洗机适用对象:硅片 、蓝宝石基片,2-4英寸 4-2篮/批; 6-8英寸 2-1篮/批; 适用产业:半导体照明(LED)、半导体材料、半导体分立器件、集成电路、MEMS、有机发光二级管(OLED)等;控制模式:手动控制模式、
2022-04-23
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