隔爆气体分析仪在很多生产过程中，特别是燃烧过程和氧化反应过程中，测量和控制混合气体中的氧含量是非常重要的．工业上连续测定氧含量的分析仪器，大都是利用氧的磁性特征。原理是利用烟气组分中氧气的磁化率特别高这一物理特性来测定烟气中含氧量。氧气为顺磁性气体（气体能被磁场所吸引的称为顺磁性气体），在不均匀磁场中受到吸引而流向磁场较强处。在该处设有加热丝，
隔爆气体分析仪
分析仪根据Lambert-Beer定律，并采用NDIR（非色散红外）原理，可选择性在波长2-9um范围内测量多种组分，例如：一氧化碳，二氧化碳，二氧化硫，甲烷，一氧化氮以及一些简单碳氢化合物。
多应用于存在化学反应的生产过程，例如氨气合成流程中，在使用温度仪表和压力仪表控制反应环境以外，还需要使用气体分析仪表来分析进气的化学成分，控制氢气和氨气之间的合理比例，这样才能大限度的提高氨气合成率，而获得较高的生产效率。
一台气体分析仪或一套气体分析系统相当于一套完整的化工工艺设备，因此，气体分析仪器系统工作过程就是在实现一系列的化工过程。若想通过气体分析得到准确数据，就必须了解这一系列化工过程中各阶段的情况及变化，认真研究并掌握其中的规律，只有这样才能达到准确测定的目的。
DLAS技术本质上是一种光谱吸收技术，通过分析激光被气体的选择性吸收来获得气体的浓度。它与传统红外光谱吸收技术的不同之处在于，半导体激光光谱宽度远小于气体吸收谱线的展宽。因此，DLAS技术是一种高分辨率的光谱吸收技术，半导体激光穿过被测气体的光强衰减可用朗伯-比尔（Lambert-Beer）定律表述式得出，关系式表明气体浓度越高，对光的衰减也越大。因此，可通过测量气体对激光的衰减来测量气体的浓度。
分析仪按照光学系统划分，可分为双光路和单光路两种：
（1）双光路：从两个相同光源或一个精确分配的单光源，发出两路彼此平行的光束，分别通过分析气室后和参比气室后进入检测器。