痕量低浓度氮氧化物分析仪本质上是一种光谱吸收技术,通过分析激光被气体的选择性吸收来获得气体的浓度。它与传统红外光谱吸收技术的不同之处在于,半导体激光光谱宽度远小于气体吸收谱线的展宽。因此,DLAS技术是一种高分辨率的光谱吸收技术,半导体激光穿过被测气体的光强衰减可用朗伯-比尔(Lambert-Beer)定律表述式得出,关系式表明气体浓度越高,对光的衰减也越大。因此,可通过测量气体对激光的衰减来测量气体的浓度。
痕量低浓度氮氧化物分析仪
分析仪按照光学系统划分,可分为双光路和单光路两种:
(1)双光路:从两个相同光源或一个精确分配的单光源,发出两路彼此平行的光束,分别通过分析气室后和参比气室后进入检测器。
(2)单光路:从光源发出单束红外光,利用切光装置将红外光调制成不同波长的光束,轮流通过分析气室进入检测器。
质谱分析法是利用不同离子在电场或者磁场中运动轨迹的不同,把离子按质荷比分离而得到质量图谱,可以得到样品的定性定量结果。质谱仪按照常用的质量分离器不同可分为扫描磁扇式磁场质谱仪和四极质谱仪,飞行时间质谱仪等几种类型。目前工业应用上通常采用的是扫描磁扇式质谱仪。四极质谱仪的灵敏度高,适合实验室或科学研究。扫描磁扇式的稳定性和重复性较高,适合工业应用。
多应用于存在化学反应的生产过程,例如氨气合成流程中,在使用温度仪表和压力仪表控制反应环境以外,还需要使用气体分析仪表来分析进气的化学成分,控制氢气和氨气之间的合理比例,这样才能大限度的提高氨气合成率,而获得较高的生产效率。在锅炉燃烧控制中也起到了非常重要的作用。