| 加工定制 | 是 |
|---|---|
| 进水口径 | 50（mm） |
| 产水量 | 6吨/小时 |
| 规格 | 应设备而定 |
| 工作压力 | 150-200（psi） |
| 品牌 | 亮海 |
| 型号 | LHCCS-6 |
一、电子超纯水工艺简介
电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话，会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。在光伏行业电子管生产中，如其中混入杂质**会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，如其配制纯水中含铜在8ppb以上**会引起发光变色；含铁在50ppb以上**会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个晶体管需高纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液，如纯水中有金属离子、微生物、微粒等杂质**会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致报废、次品。在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，III族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，V族素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20%~50%）会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面**会引起电路短路或特性变差。因此水的质量相当重要。采用反渗透加EDI的脱盐工艺，可以达到超纯水标准。
二、应用领域
医药行业用水：医用大输液、肾透析**、医药制剂等
食品工业用水：饮用纯净水、矿泉水、饮料、啤酒、乳业等
海水、苦咸水淡化：海岛、舰船、高盐碱地区生活用水改善
楼宇、社区**用水：星级宾馆、机场、房产物业纯水网络系统等
化工行业工艺用水：化工、冷却、化肥、化学药剂制造
电子工业用水：单晶硅半导体、集成电路块、显象管制造系统
工业产品制造用水：汽车、家电涂装、涂料、油漆、精细加工清洗等
电力行业锅炉给水：热力、火力发电锅炉、中低压锅炉动力系统
精细化工、精尖学科用水：化妆品、洗涤剂、生物化工、基因工程等
中药提取：中药、西药、淀粉、味精、食乳品、化工等
其它：节水灌溉、汽车清洗、游泳池、污水处理、不锈钢非标制品等
适合饮用纯净水、酿酒、食品、饮料用水。
三、工艺流程
方案1预处理系统→复床系统→混床系统→后处理系统→用水点
方案2预处理系统→ RO系统→混床系统→后处理系统→用水点
方案3预处理系统→ RO系统→EDI系统→后处理系统→用水点
工艺一
原水——原水加压泵——多介质过滤器——活性碳过滤器——钠离子过滤器——精密过滤器——高压-----泵——反渗透主机——臭氧消毒器——纯水箱——纯净水增压泵——紫外线杀菌器——用水系统
工艺二
适合饮用纯净水、酿酒、食品、饮料用水。
1.原水——原水加压泵——多介质过滤器——活性碳过滤器——钠离子过滤器——精密过滤器——高压------泵——1级反渗透主机——高压泵——2级反渗透主机——臭氧消毒器——纯水箱——纯净水增压-----泵——紫外线杀菌器——用水系统
出水标准符合美国ASTM标准 符合中国电子部超纯水水质标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）
备注：具体的设备处理量、出水标准、设备材质、尺寸及电器控制等，我公司将会提供给您详细的方案说明。
