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以下数值仅供参考
| 性能型号 | JXS-DSV-0606 | JXS-DSV-0808 | JXS-DSV-1010 | JXS-DSV-1212 | JXS-DSV-1215 | |
| 镀膜室尺寸 | Ф600×H600mm | Ф800×H800mm | Ф1000×H1000mm | Ф1200×H1200mm | Ф1200×H1500mm | |
| 用于行业 | 钟表行业、3C行业、五金行业、精密模具业、工具行业等 | |||||
| 用于产品 | 手表、手机壳、介子、眼镜架、五金、洁具、餐具及刀具、模具等 | |||||
| 镀膜效果 | Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金属石膜（DLC）。 | |||||
| 真空室结构 | 立式前开门结构配置抽气系统及水冷系统 | |||||
| 真空获得系统 | 分子泵 | ≥2500（L/s） | ≥2500（L/s） | ≥3600（L/s） | ≥4200（L/s） | ≥4200（L/s） |
| 罗茨泵 | ≥150（L/s） | ≥150（L/s） | ≥300（L/s） | ≥300（L/s） | ≥300（L/s） | |
| 机械泵 | ≥70（L/s） | ≥70（L/s） | ≥70（L/s） | ≥70（L/s） | ≥70（L/s） | |
| 维持泵 | ≥8（L/s） | ≥15（L/s） | ≥15（L/s） | ≥30（L/s） | ≥30（L/s） | |
| 备注 | 可根据客户的要求进行配置 | |||||
| 真空测量系统 | 薄膜规(MKS)、冷阴极(MKS)、皮拉尼(MKS) | |||||
| 电源类型 | 直流电源、中频电源、脉冲电源 | |||||
| 极限真空指标 | 空载冷态 1.0一 6.0×10-4Pa | |||||
| 电弧源 | ≥4台 | ≥6台 | ≥8台 | ≥10台 | ≥12台 | |
| ≥200A | ≥200A | ≥200A | ≥200A | ≥200A | ||
| 偏压电源 | ≥10KW | ≥10KW | ≥20KW | ≥20KW | ≥30KW | |
| 磁控电源 | ≥0 | ≥0 | ≥0 | ≥0 | ≥0 | |
| 工件转动方式 | 多轴行星式公自转、变频调速（可控可调） | |||||
| 工件烘烤温度 | 常温-300℃至450℃-600℃可控可调（PID温控） | |||||
| 工艺气体 | 3路或4路工艺气体流量控制及显示系统选配自动加气系统 | |||||
| 氩气、氮气、氧气、乙炔等 | ||||||
| 冷却方式 | 水冷却循环方式，另配工业冷却水塔或工业冷水机（制冷机)或深冷系统。（客户提供） | |||||
| 控制方式 | PLC+触摸屏操作或计算机控制，手动、半自动、自动方式、 | |||||
| 供给指标 | 气压0.5-0.8MPa、水温≤25℃、水压≥0.2MPa、 | |||||
| 报警及保护 | 对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施及电气联锁功能。 | |||||
| 整机总功率 | ≤65KW | ≤65KW | ≤65KW | ≤65KW | ≤65KW | |
| 输出频率 | 电压380V±5% ，频率50Hz（可根据客户国家用电标准配置） | |||||
| 设备占地面积 | ≤55m2 | ≤55m2 | ≤55m2 | ≤55m2 | ≤55m2 | |
| 备注 | 可根据用户要求设计制造非标设备，可加装磁控溅射靶、中频孪生对靶等。 | |||||
多弧离子镀技术的工作原理主要基于冷阴极真空弧光放电理论。图1为多弧离子镀工作原理示意图，点燃真空电弧后，阴极靶材表面上出现一些不连续、大小和形状多样、明亮的斑点,它们在阴极表面迅速地做不规则的游动,一些斑点熄灭时又有些斑点在其他部位形成，维持电弧的燃烧。阴极斑点的电流密度达104~105A/cm2,并且以1000m/s的速度发射金属蒸气，其中每发射10个电子就可发射1个金属原子,然后这些原子再被电离成能量很高的正离子（如Ti+）,正离子在真空室内运行时与其他离子结合（如与N-形成TiN），沉积在工件表面形成涂层。
图2为真空弧光放电示意图，真空弧光放电理论认为电量的迁移主要借助于场电子发射和正离子电流，这两种机制同时存在，而且相互制约。在放电过程中，阴极材料大量蒸发，这些蒸发原子产生的正离子在阴极表面附近很短的距离内产生极强的电场，在这样强的电场作用下，电子足以能直接从金属的费米能级逸出到真空，产生所谓的“场电子发射”
图2 真空弧光放电示意图
